iPhone15シリーズ用A17と、次次世代Appleシリコン「M3」を製造すると噂されるTSMCの3nmプロセスに関し、歩留まりに関する懸念が伝えられていましたが、露光工程を変更することで改善の見通しがたったとの情報を、GAMINGSYMが伝えました。
改良版「N3E」の立ち上げ計画
先日、TSMCの3nmプロセスの良品率が高くないことから、iPhone15シリーズ用A17とM3は、3nmプロセスで製造されたチップと5nmプロセスで製造されたチップとのチップレットになる可能性があると、IT之家が報じていました。
DigiTimesによれば、TSMCは3nmプロセス「N3」での良品率の低さを解決するため、「N3」の改良版である「N3E」の立ち上げに着手したとのことです。
2023年下半期（7月〜12月）に量産開始
同メディアは、TSMCは3nmプロセス「N3」での半導体製造を2022年下半期（7月〜12月）に、改良型の「N3E」での製造を2023年下半期（7月〜12月）に開始すると伝えています。
TSMCのN3Eでの量産開始に先立ち、2023年第2四半期（4月〜6月）には製造ラインの稼働準備が整う見通しです。
N3Eでは極端紫外線（EUV：Extreme Ultra Violet）マスクでの露光回数が当初予定よりも削減される見込みですが、その場合でもトランジスタ密度はN3より8%低くなるだけで、5nmプロセス「N5」よりも60%高く、試作段階における良品率は3nmプロセス「N3B（N3Bの説明表記なし）」よりも大幅に高いとelchapuzasが報告しています。
TSMC trabaja en los 3nm mejorados (N3E) para la 2ª Mitad de 2023 https://t.co/NAXTVwoHDk
— chapuzasinformatico (@elchapuzas) October 15, 2021
Source:DigiTimes, elchapuzas via GAMINGSYM
Photo:Apple Hub/Facebook
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- Original:https://iphone-mania.jp/news-442528/
- Source:iPhone Mania
- Author:iPhone Mania